国家知识产权局信息显示，PVA 技术中心有限公司申请一项名为“用于沉积原子层和制造菲涅耳波带片的反应器和方法”的专利，公开号CN121311624A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于将至少一种材料的一个或更多个原子层沉积到基底上的反应器和方法。该反应器包括容纳喷淋头、基台和至少一个基底支架的反应室。该喷淋头包括至少一个气体出口，该至少一个气体出口被配置为提供至少一种材料的气流或至少一种材料的至少一种组分的气流。基台可围绕基台旋转轴旋转。至少一个基底支架布置在基台上并被配置为围绕基底旋转轴旋转基底。特别地，基底支架被配置为围绕基底旋转轴旋转基底，其中，基台旋转轴和基底旋转轴相对于彼此倾斜。本发明还涉及用于使用X射线产生物体的放大图像的X射线显微镜。
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来源：市场资讯